第972章 会谈进展 (5 / 6)
        所有半导体芯片，其实本质都是高集成度的电路罢了，而其单个元件也是主要由p-n结半导体构成的。

        微电子生产工艺讲，图形转移是加工的重要基础——如何把器件和电路的设计图纸或工作站转移到硅基片去？

        这实际是一个在衬底建立三维图形的过程，而这也成为了晶圆片代工厂所必须要掌握的工艺。掺杂、制膜、图形转移成为了微电子生产的主要工艺。

        而图形转移过程主要由光刻和蚀刻承担。

        光刻，又称为图形曝光，使用带有某一层设计几何形状的掩模版，通过光化学反应，经过曝光与显影，使光敏的光刻胶在衬底形成三位浮雕图形，将图案转移到覆盖在半导体晶面的感光薄膜层。

        而蚀刻是指在光刻胶的掩蔽下，根据需要形成的微图形的膜层，采用不同的蚀刻物质和方法在膜层进行选择性蚀刻的工艺。

        相较于后者，光刻技术的发展对电路集成度的提高起了决定性的作用——光刻占用芯片制造的30%成本，是微电子制造过程最复杂、昂贵、关键的工艺。

        “由于美国法案的限制，最先进的设备你们不要想了。”李在新反应过来后，连忙提醒庄丁宁等人，免得他们在这个问题纠缠不清。

        “没问题，稍微落后一代我们也不介意。”庄丁宁大度地道，因为他们本来没指望得到最先进的制造设备，估计三星也没有几台。

        李在新看到庄丁宁坦然的眼神，突然发现自己真的说了一句废话。

        而他将要为这句废话付出的代价，可能包括被公司高层训斥一顿，与庄丁宁五人展开更加持久的谈判大战，结果变得更加难以预料。

        韩国跟我们可不同，国内算会谈失利，也不会被骂的太惨，韩国企业的高层可是会打人的。因为会谈失利，李在新途回国被级臭骂一顿，而且他是跪着挨骂的。

        这次回去，李在新预感自己可能要挨打。

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