第31章 学霸和学霸亦有差距 (7 / 10)
        李东心里吐槽了一句，随后收回目光，看向试卷。

        前面两问李东提笔就写。

        【1.求该光刻系统的最小分辨线宽δ?】

        解：由瑞利判据公式δ=0.61λ/NA，代入数据λ=436nm，NA=0.35。

        δ?≈0.76μm。

        【2.写出两种工业界常规的技术方案，并简述物理原理。】

        这个阐述题，其实考的是学生的知识面，如果你整天读死书，那还真不一定知道。

        不过李东在啃大物的时候，就有了解过相关的知识了。

        他甚至还专门在网上找了新闻来看。

        一个是用缩短波长的方案，比如使用DUV深紫外光之类的。

        原理也很简单，就是δ与λ成正比。

        另一个就是增大数值孔径了，比用如用浸没式光刻。

        原理则是利用水等介质提高折射率n，从而增大NA。

  The content is not finished, continue reading on the next page

更多完整内容阅读登陆

《墨缘文学网，https://wap.mywenxue.org》