第二十章 真空镀膜（上） (3 / 5)
        “学姐，这个是干什么用的？”许秋指着平台问道。

        “这个是电流加热装置，将用钨丝制成的篓，放在两个平台间，用金属板压住钨篓两端，通电流对钨篓加热，可达到很高的温度，使其内部靶材气化，进行蒸镀。”陈婉清道。

        许秋继续看向舱体，中间部分有一探头状的物体，像个吊灯一样悬挂在束源炉和平台的上方。

        学姐顺着许秋的目光看去，主动介绍道：

        “这个是晶振装置，探头处装有晶振片，用来实时检测蒸镀的薄膜厚度。它的位置一定不能乱动，因为现在的参数是已经标定过的，如果移动了它的位置，对膜厚的检测结果就不标准了。此外晶振片也是有寿命的，所以需要定期更换晶振片，并重新标定厚度。”

        舱体最上面是一块大的圆形金属挡板，以及一个可以旋转的样品台。

        “上面这个肯定是样品台了，为什么下面要加装一块金属挡板呢？”许秋问道。

        “这块金属挡板叫做样品挡板，当他处于开启状态时，可以有效阻挡气体分子沉积在样品表面。因此，我们可以利用它，控制蒸镀的开始和结束时间，得到精确的厚度。”陈婉清道。

        将舱内情况了解完毕后，许秋开始做蒸镀前的准备工作。

        两批基片的器件结构不同，需要分两次进行蒸镀。

        第一批是正常结构，也就是蒸镀钙和铝。

        许秋首先在钨篓中装满99.995%纯度的铝锭，然后让学姐帮忙打开钙束源炉的挡板。

        挡板的开关是数控的，需要在手套箱外的总控台操作。

  The content is not finished, continue reading on the next page

更多完整内容阅读登陆

《墨缘文学网，https://wap.mywenxue.org》